ASML 技術高級副總裁 Jos Benschop 在接受《日經亞洲》采訪時表示，該企業已同光學組件獨家合作伙伴蔡司一道啟動了5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻機開發。

　　作為參考，目前的 TWINSCAN EXE:5000 光刻系統采用 High NA (0.55NA) 光學系統，分辨率為 8nm。更高的分辨率意味著先進制程企業可減少曝光次數、提升光刻圖案質量。

　　Jos Benschop 提到，ASML 尚未設定 Hyper NA 光刻機推出的目標日期，不過項目開發目標是將 NA（IT之家注：數值孔徑）進一步提升到 0.7 乃至更高;8nm 的分辨率意味著 Hyper NA 系統能滿足 2035 年乃至更后階段的產業需求。

　　對于近來才啟動部署的 High NA 圖案化設備，這位 ASML 高管稱這些機臺的廣泛使用要晚一些，這是因為行業需要測試、驗證并建立相應的生態系統;0.55NA 光刻機預計可滿足本十年內乃至到三十年代初的行業需求。